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無(wú)塵室是汙染控製的基礎(chǔ)
日期：2025-04-28 22:42
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摘要：
無(wú)塵室(Clean Room)，亦稱(chēng)為無(wú)塵室或清淨(jìng)室。它是汙染控製的基礎(chǔ)。冇有無(wú)塵室，汙染敏感零件不可能批量生產(chǎn)。在FED-STD-2裡麵，無(wú)塵室被定義為具備空氣過(guò)濾、分配、優(yōu)化、構(gòu)造材料和裝置的房間，其中特定的規(guī)則的操作程序以控製空氣懸浮微粒濃度，從而達(dá)到適當(dāng)?shù)奈⒘崪Q(jìng)度級(jí)彆。無(wú)塵室是指將一定空間範(fàn)圍內(nèi)之空氣中的微粒子、有害空氣、**等之汙染物排除，並將室內(nèi)之溫度、潔淨(jìng)度、室內(nèi)壓力、氣流速度與氣流分布、噪音振動(dòng)及照明、靜電控製在某一需求範(fàn)圍內(nèi)，而所給予特彆設(shè)計(jì)之房間。
無(wú)塵淨(jìng)化級(jí)彆主要是根據(jù)每立方米空氣中粒子直徑大於劃分標(biāo)準(zhǔn)的粒子數(shù)量來(lái)規(guī)定。也就是說(shuō)所謂無(wú)塵並非100%冇有一點(diǎn)灰塵，而是控製在一個(gè)非常微量的單位上。當(dāng)然這個(gè)標(biāo)準(zhǔn)中符合灰塵標(biāo)準(zhǔn)的顆粒相對(duì)於我們常見(jiàn)的灰塵已經(jīng)是小的微乎其微，但是對(duì)於光學(xué)構(gòu)造而言，哪怕是一點(diǎn)點(diǎn)的灰塵都會(huì)產(chǎn)生非常大的負(fù)麵影響，所以在光學(xué)構(gòu)造產(chǎn)品的生產(chǎn)上，無(wú)塵是必然的要求。
無(wú)塵室每立方米將小於0.5微米粒徑的微塵數(shù)量控製在3500個(gè)以下，就達(dá)到了國(guó)際無(wú)塵標(biāo)準(zhǔn)的A級(jí)。目前應(yīng)用在芯片級(jí)生產(chǎn)加工的無(wú)塵標(biāo)準(zhǔn)對(duì)於灰塵的要求高於A級(jí)，這樣的高標(biāo)主要被應(yīng)用在一些等級(jí)較高芯片生產(chǎn)上。微塵數(shù)量被嚴(yán)格控製在每立方米1000個(gè)以?xún)?nèi)，這也就是業(yè)內(nèi)俗稱(chēng)的1K級(jí)彆。
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